特許
J-GLOBAL ID：200903064045972651
ポリマーウエブに微細孔および微細エンボスを形成する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-510315
公開番号（公開出願番号）：特表平9-503403
出願日： 1994年09月06日
公開日（公表日）： 1997年04月08日
要約：
【要約】それぞれ複数の微細孔を有するパタン形成面と反対側面とを有する形成構造(15、50)の表面形状に合致するように、実質的に平坦なポリマーフィルムの実質的に連続ウエブ(10)に微細孔および微細エンボスを形成するする連続的多段法。各形成構造はその形成面の孔からその反対側面まで開く。フィルムウエブは無限長、第1面、第2面および厚さを有する。この厚さは第1面と第2面との間隔である。この方法は順次に少なくとも2形成段階を含み、その第1段階は第1形成構造(15)の微細孔と一致するようにフィルムウエブに孔を形成し、第2段階は第2形成構造(50)の微細孔の輪郭に対してフィルムウエブを形状合致させる。
請求項（抜粋）：
実質的に平坦なポリマーフィルムの実質的に連続ウエブにパーフォレーションおよびエンボシング加工して微細孔および微細エンボスを有するポリマーウエブを形成する連続的多段法において、前記方法は、 (a)多数の微細孔を有する第1形成構造上に前記フィルムウエブを連続的に支承し、前記第1形成構造の微細孔はこの形成構造の対向両面を相互に流体連通させ、前記第1形成構造は前記フィルムウエブの走行方向に平行な方向に移動して前記フィルムウエブを前記方向に搬送する段階と、 (b)前記微細孔を有する前記第1形成構造の前記運動方向に沿った箇所において前記フィルムウエブの厚さ方向に第1流体差圧を実質的に連続的に加え、前記流体差圧は前記形成構造中の前記微細孔と一致する区域において前記フィルムウエブを破断させる程度に強力であって、微細孔を有するウエブを形成する段階と、 (c)多数の微細孔を有する第2形成構造上に前記の微細孔を有するフィルムウエブを連続的に支承し、前記第2形成構造の微細孔はこの第2形成構造の対向両面を相互に流体連通させ、前記第2形成構造は前記微細孔を有するフィルムウエブの走行方向に平行な方向に移動して前記微細孔を有するフィルムウエブを前記方向に搬送する段階と、 (d)前記微細孔を有する前記第2形成構造の前記運動方向に沿った箇所において前記微細孔を有するフィルムウエブの厚さ方向に第2流体差圧を実質的に連続的に加え、前記第2流体差圧は前記微細孔を有するフィルムウエブを前記第2形成構造の微細孔と実質的に一致する形状に押圧する程度に強力であるが、同時に前記第1流体差圧によって形成された前記微細孔の一体性を実質的に保持して、微細孔と微細エンボスとを有するフィルムウエブを形成する段階とを含む事を特徴とする方法。
IPC (3件)：
A61F 13/15
, A61F 13/54
, B26F 3/00
A61F 13/18 303
, B26F 3/00 G
, B26F 3/00 S
, A41B 13/02 F
