特許

J-GLOBAL ID：200903064052020240

化学増幅型レジスト溶液

発明者： 小林 英一 ,  大田 利幸 ,  辻 昭
出願人/特許権者： 日本合成ゴム株式会社
代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-048634
公開番号（公開出願番号）：特開平7-261377
出願日： 1994年03月18日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】【構成】 β-メトキシイソ酪酸メチルを含有する溶剤の溶液であることを特徴とする化学増幅型レジスト溶液。【効果】 感度及び解像度等に優れるレジスト被膜を与える。特に大口径化された基板へスピンコート法により塗布して得られるレジスト被膜は、塗布むら、曇りが実質的になくその表面は平滑である。また、微細加工を安定的に行なうことができ、保存安定性に優れ、良好なパターン形状を与える。さらに、本発明の化学増幅型レジスト溶液は、i線等の紫外線、エキシマレーザー等の遠紫外線、シンクロトロン放射線等のX線、電子線等の荷電粒子線等の放射線のいずれにも対応でき、今後さらに微細化が進行すると予想される集積回路製造用の化学増幅型レジスト被膜を形成するための溶液として有利に使用できる。

請求項（抜粋）：

溶剤の成分としてβ-メトキシイソ酪酸メチルを含有する溶剤の溶液であることを特徴とする化学増幅型レジスト溶液。

IPC (5件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027