特許

J-GLOBAL ID：200903064065283674

濃縮式脱臭装置における濃縮倍率の制御方法

発明者： 小松 隆夫 ,  山内 奉身 ,  伊藤 武彦
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
代理人 (1件)： 田中 増顕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-330570
公開番号（公開出願番号）：特開平8-155253
出願日： 1994年12月07日
公開日（公表日）： 1996年06月18日
要約：

【要約】【目的】 吸着ゾーン、再生ゾーンおよび冷却ゾーンに分割されたハニカムロータを有する濃縮式脱臭装置において、濃縮倍率を任意に制御する制御方法並びに処理ガスの濃度変化に影響されずに一定のガス濃度に維持するように制御する制御方法を提供することにある。【構成】 吸着ゾーン、再生ゾーンおよび冷却ゾーンに分割されたハニカムロータを有する濃縮式脱臭装置における濃縮倍率の制御方法において、冷却ゾーンから加熱ヒータを通って再生ゾーンに供給される再生用加熱空気の一部を循環することにより、再生用加熱空気のガス濃度の濃縮倍率を制御する。

請求項（抜粋）：

吸着ゾーン、再生ゾーンおよび冷却ゾーンに分割されたハニカムロータを有する濃縮式脱臭装置における濃縮倍率の制御方法において、冷却ゾーンから加熱ヒータを通って再生ゾーンに供給される再生用加熱空気の一部を循環することにより、再生用加熱空気のガス濃度の濃縮倍率を制御することを特徴とする方法。

IPC (4件)：

B01D 53/38 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/06 ,  B01D 53/34 ZAB

FI (2件)：

B01D 53/34 116 A ,  B01D 53/34 ZAB

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平4-059015
  
• 特開平4-059015