特許
J-GLOBAL ID：200903064078559261
連続真空処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-247632
公開番号（公開出願番号）：特開平6-097258
出願日： 1992年09月17日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：
【要約】【目的】連続真空処理装置において、搬送系に起因する処理性能の低下を抑えクリ-ンなプロセス処理が可能で、搬送系の信頼性が高く、装置全体の小型化が図れ、連続処理システムのレイアウトに対し自由度の高い連続真空処理装置を提供することにある。【構成】隣接して配置され、所定の真空処理を行う、独立した複数の処理モジュールと、前記複数の処理モジュールに対して配置され、上面に複数のカセットを搭載可能なステージを有し、所定のカセットと前記複数の処理モジュールとの間で、真空/大気圧を繰返し、ウェハ搬送用のロボットを内蔵した大気圧リーク可能な真空容器を備えウェハ搬送が可能な搬送ユニットから構成される。
請求項（抜粋）：
隣接して配置され、所定の真空処理を行う独立した複数の処理モジュ-ルと、前記複数の処理モジュ-ルに対して配置され、少なくとも1つのカセットを搭載可能なステ-ジを有し、所定のカセットと前記複数の処理モジュ-ルとの間で、真空/大気圧を繰り返す試料搬送用のロボットを内蔵した真空容器を備え、試料搬送を行う少なくとも1つの搬送ユニットとで成ることを特徴とする連続真空処理装置。
引用特許：
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