特許

J-GLOBAL ID：200903064081849394

粒子線発生装置

発明者： 竹内 一浩 ,  川久保 幸雄 ,  岡崎 隆司 ,  真木 紘一 ,  森 利克
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-004373
公開番号（公開出願番号）：特開2002-214398
出願日： 2001年01月12日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
要約：

【要約】【課題】装置の小型化及びコスト低減が可能な粒子線発生装置を提供することにある。【解決手段】重水素が吸蔵されたターゲット5を真空容器1内に配置し、イオン源3から出力された3He のイオンビームをターゲット5に照射することによって陽子線8を発生させる。この構成では、重水素がターゲット5に固定されているために重水素同士の核反応は起こらず、中性子線は発生しない。

請求項（抜粋）：

真空容器内に配置され、かつ重水素が吸蔵されたターゲットと、前記ターゲットに照射される3He のイオンビームを発生するイオン源とを備えたことを特徴とする粒子線発生装置。