特許

J-GLOBAL ID：200903064083990035

荷電粒子ビーム露光装置

発明者： 川上 研一 ,  大川 達朗 ,  石田 和司 ,  津田 章義
出願人/特許権者： 富士通株式会社 ,  株式会社アドバンテスト
代理人 (1件)： 土井 健二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-092247
公開番号（公開出願番号）：特開平10-284361
出願日： 1997年04月10日
公開日（公表日）： 1998年10月23日
要約：

【要約】【課題】温度変化によるチャンバ30の伸縮による、ステージ位置検出誤差を防止する。【解決手段】荷電粒子ビームの光学系10が収納されたコラム部12と、コラム部12に結合されるチャンバ部30と、チャンバ部30内に移動可能に設けられ試料34が載置される試料ステージ32とを有する荷電粒子ビーム露光装置において、所定の周波数のレーザーが投光され前記試料ステージ32に設けられた反射手段36で反射される測定光路Lx2,Ly2と、測定光路の始点からコラム部内の光学系の原点22までの距離にほぼ等しい長さを有し且つチャンバ部30の材料とほぼ同じ膨張率で膨張する参照光路Lxref,Lyrefとを有し、測定光路を通った測定レーザー光信号と参照光路を通った参照レーザー光信号とから試料ステージ32の位置の変化を測定するステージ位置測定装置を設けたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームの光学系が収納されたコラム部と、該コラム部に結合されるチャンバ部と、該チャンバ部内に移動可能に設けられ試料が載置される試料ステージとを有する荷電粒子ビーム露光装置において、所定の周波数のレーザーが投光され前記試料ステージに設けられた反射手段で反射される測定光路と、該測定光路の始点から前記コラム部内の光学系の原点までの距離にほぼ等しい長さを有し且つ前記チャンバ部の材料とほぼ同じ膨張率で膨張する参照光路とを有し、前記測定光路を通った測定レーザー光信号と前記参照光路を通った参照レーザー光信号とから前記試料ステージの位置の変化を測定するステージ位置測定装置を設けたことを特徴とする荷電粒子ビーム露光装置。