荷電粒子ビーム照射装置および荷電粒子ビーム照射方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-178048
公開番号（公開出願番号）：特開平11-019235
出願日： 1997年07月03日
公開日（公表日）： 1999年01月26日
要約：

【要約】【課題】荷電粒子ビームのエネルギー分布を変更でき、均一な線量率分布の荷電粒子ビームを照射対象に照射することができる荷電粒子ビーム照射装置および荷電粒子ビーム照射方法を提供する。【解決手段】荷電粒子ビーム照射装置100は、照射野拡大装置1,リッジフィルタ2,レンジシフタ3,コリメータ4、および、ボーラス5を構成機器として有し、リッジフィルタ2は、支持板11上に多数並べられたくさび形構造物10とくさび形構造物10の山30を覆う遮蔽物7をもつ。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームのビーム進行方向のエネルギー分布を拡大するリッジフィルタを備え、前記リッジフィルタを通過した前記荷電粒子ビームを照射対象に照射する荷電粒子ビーム照射装置において、前記リッジフィルタは、前記ビーム進行方向に平行な断面がくさび形で、入射された前記荷電粒子ビームを異なるエネルギーの複数のビーム成分を有する荷電粒子ビームにして透過させるくさび形構造物と、前記ビーム成分を変更するビーム成分変更手段とを備えることを特徴とする荷電粒子ビーム照射装置。

IPC (3件)：

A61N 5/10 , G21K 1/04 , G21K 5/04

FI (4件)：

A61N 5/10 N , A61N 5/10 H , G21K 1/04 R , G21K 5/04 A

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