特許
J-GLOBAL ID：200903064091241459
蛍光X線分析方法および装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-232310
公開番号（公開出願番号）：特開平11-072450
出願日： 1997年08月28日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：
【要約】【課題】 試料から発生する蛍光X線の強度分布を測定する蛍光X線分析において、試料の形状や表面状態に適切に応じた測定データの分布を表示できる蛍光X線分析方法および装置を提供する。【解決手段】 測定を行った各測定点Pijについての測定強度またはこれに基づく分析値からなる測定データと、測定範囲を含む試料表面1aの画像データとを、前記各測定点Pijの座標とその座標の単位長あたりの画像データにおける画素数とを用いて関連づけて、測定範囲内の画像データを同範囲外の画像データと区別して、試料表面上での測定データの分布と並列して同時に表示する。
請求項（抜粋）：
試料部位から発生する蛍光X線の強度を測定する蛍光X線分析方法において、測定を行った各測定点についての測定強度またはこれに基づく分析値からなる測定データと、測定範囲を含む試料表面の画像データとを、前記各測定点の座標とその座標の単位長あたりの画像データにおける画素数とを用いて関連づけて、測定範囲内の画像データを同範囲外の画像データと区別して、試料表面上での測定データの分布と並列して同時に表示することを特徴とする蛍光X線分析方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 23/223
, G06F 15/62 380
