特許

J-GLOBAL ID：200903064101147510

有機単分子薄膜の製造方法

発明者： 大野 公隆 ,  果 尚志 ,  徳本 洋志
出願人/特許権者： 工業技術院長 ,  技術研究組合オングストロームテクノロジ研究機構 ,  シャープ株式会社
代理人 (2件)： 林 宏 (外1名) ,  林 宏 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-294716
公開番号（公開出願番号）：特開平9-108565
出願日： 1995年10月18日
公開日（公表日）： 1997年04月28日
要約：

【要約】【課題】 Si基板上に膜形成用分子を選択的に化学吸着させることにより、良質でかつ強固な有機単分子膜を作成する。【解決手段】 試料ステージ3上にセットされた清浄表面のSi基板上に、Asの分子線源4の加熱により単原子層厚の砒素を吸着させた後、その砒素終端Si基板をSH基を有する分子を含む溶液中に浸漬するなどの方法により、そのSi基板上にSH基を有する分子を化学的に吸着させ、その分子の単分子膜を形成する。

請求項（抜粋）：

清浄表面のSi基板上に単原子層厚の砒素を吸着させた後、SH基を有する分子を化学的に吸着させ、Si基板上にその分子の単分子膜を形成することを特徴とする有機単分子薄膜の製造方法。

IPC (7件)：

B01J 19/00 ,  B05D 1/20 ,  C30B 29/54 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/363 ,  H01L 51/00

FI (7件)：

B01J 19/00 M ,  B05D 1/20 ,  C30B 29/54 ,  H01L 21/203 M ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/363 ,  H01L 29/28