特許

J-GLOBAL ID：200903064104669267

水溶性パターン形成材料

発明者： 畠山 潤 ,  渡辺 聡 ,  石原 俊信 ,  梅村 光雄 ,  岡崎 智
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-172779
公開番号（公開出願番号）：特開平9-006008
出願日： 1995年06月15日
公開日（公表日）： 1997年01月10日
要約：

【要約】【構成】 水、特に純水を含有すると共に、下記一般式(1)で示されるパーフルオロアルキルエーテルカルボン酸型界面活性剤を水100重量部に対して0.00001〜30重量部添加してなり、更に水溶性高分子化合物を添加してなる水溶性パターン形成材料。【化1】(但し、上記式中pは1〜10の整数である。)【効果】 フォトレジスト膜を用いたフォトリソグラフィー法によるパターン形成におけるフォトレジスト膜上層の保護膜の形成材料として有用であり、特に、その成膜時の優れた濡れ性及び低い起泡性によりパターン欠陥の発生を防止することができ、従来設備を増設することなく微細パターンを容易に形成することが可能となる。

請求項（抜粋）：

水を含有すると共に、下記一般式(1)で示されるパーフルオロアルキルエーテルカルボン酸型界面活性剤を添加してなることを特徴とする水溶性パターン形成材料。【化1】(但し、上記式中pは1〜10の整数である。)

IPC (2件)：

G03F 7/11 501 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/11 501 ,  H01L 21/30 575