特許

J-GLOBAL ID：200903064105039976

超微細水滴製造方法及び装置

発明者： 戸 澤 茂
出願人/特許権者： コスモ・イーシー株式会社
代理人 (1件)： 戸田 親男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-213258
公開番号（公開出願番号）：特開平10-034047
出願日： 1996年07月25日
公開日（公表日）： 1998年02月10日
要約：

【要約】【目的】 陰イオンを多量含む超微細水滴を製造することを目的としている。【構成】 円筒状本体と本体中心部に設けた水噴霧管との中間に円筒状の透過性超微細水滴製造用衝撃板を設け、加圧した水を水噴霧管から衝撃板に向けて噴霧・噴射し、得られた超微細水滴は衝撃板の透過孔より出て、本体内を移動する空気によって本体外に送り出す。

請求項（抜粋）：

円筒状本体と本体中心部に設けた水噴霧管との中間に円筒状の透過性超微細水滴製造用衝撃板を設け、加圧した水を水噴霧管から衝撃板に向けて噴霧・噴射し、得られた超微細水滴は衝撃板の透過孔より出て、本体内を移動する空気によって本体外に送り出されることを特徴とする超微細水滴製造方法。

IPC (5件)：

B05B 17/00 ,  A61M 11/00 ,  A61M 16/16 ,  B01D 47/00 ,  F25D 1/02

FI (5件)：

B05B 17/00 ,  A61M 11/00 F ,  A61M 16/16 Z ,  B01D 47/00 Z ,  F25D 1/02 Z