特許

J-GLOBAL ID：200903064109923080

プラズマ処理装置

発明者： 飯野 伸治
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-164333
公開番号（公開出願番号）：特開2002-359232
出願日： 2001年05月31日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：

【要約】【課題】 複数に分割された対向電極を用いて、処理容器内におけるプラズマの分布状態を検出しつつ、検出されたプラズマの状態に応じて分割された対向電極のそれぞれを最適な位置に配置することができるプラズマ処理装置を提供すること。【解決手段】 プラズマ処理装置は、基板Gが載置される載置電極5と、前記載置電極5と対向して設けられ、複数のセグメント電極31に分割されてなる対向電極4と、前記セグメント電極31のそれぞれを個別的に駆動して前記載置電極5との間隔を調整する駆動手段と、前記各セグメント電極31の近傍において、プラズマの状態の指標となるパラメータを個々に検出する検出手段と、前記検出手段の検出値に基づいて前記駆動手段に制御信号を出力して前記各セグメント電極31と前記載置電極5との間隔を適正なプラズマ処理が行われるように制御する制御手段とを具備する。

請求項（抜粋）：

被処理基板を収容する処理容器と、前記処理容器内に設けられ、被処理基板が載置される載置電極と、前記載置電極と対向して設けられ、複数のセグメント電極に分割されてなる対向電極と、前記処理容器内に被処理基板に対してプラズマ処理を行うための処理ガスを供給するガス供給手段と、前記処理ガスをプラズマ化するために前記載置電極と前記対向電極との間に高周波電力を供給する高周波電源と、前記複数のセグメント電極のそれぞれを個別的に駆動して前記載置電極との間隔を調整する駆動手段と、前記処理容器内にプラズマが形成された状態で、前記各セグメント電極の近傍において、プラズマの状態の指標となるパラメータを個々に検出する検出手段と、前記検出手段の検出値に基づいて前記駆動手段に制御信号を出力して前記各セグメント電極と前記載置電極との間隔を適正なプラズマ処理が行われるように制御する制御手段とを具備することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/509 ,  C23C 16/52 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46

FI (6件)：

B01J 19/08 H ,  C23C 16/509 ,  C23C 16/52 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 M ,  H01L 21/302 C

Fターム (42件)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075AA61 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075DA03 ,  4G075DA04 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075ED01 ,  4G075ED13 ,  4G075FC11 ,  4G075FC15 ,  4K030CA06 ,  4K030FA03 ,  4K030JA03 ,  4K030KA15 ,  4K030KA39 ,  4K030KA41 ,  4K030LA18 ,  5F004AA01 ,  5F004BA06 ,  5F004BA07 ,  5F004BB13 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004CA05 ,  5F004CA08 ,  5F045AA08 ,  5F045BB02 ,  5F045CA15 ,  5F045DP03 ,  5F045EB02 ,  5F045EF05 ,  5F045EH04 ,  5F045EH05 ,  5F045EH14 ,  5F045EH20 ,  5F045EM10 ,  5F045GB15