特許

J-GLOBAL ID：200903064111684867

洗浄乾燥装置および洗浄乾燥方法

発明者： 原田 佳尚 ,  丹羽 正昭
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 前田 弘 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-147200
公開番号（公開出願番号）：特開平11-340187
出願日： 1998年05月28日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：

【要約】【課題】 有機媒体等を用いる蒸気乾燥をより短い時間で均一に達成する。【解決手段】 洗浄乾燥チャンバ12内で半導体基板13などの被洗浄物を洗浄した直後に、回転する半導体基板13に対してイソプロピルアルコールなどの乾燥用媒体蒸気を噴射し、それによって被洗浄物上の水滴状液体を被洗浄物から除去し、速やかな乾燥を実現する。

請求項（抜粋）：

洗浄チャンバーと、前記洗浄チャンバー内で被洗浄物を回転可能に保持するホルダーと、前記ホルダーを前記被洗浄物とともに回転させる駆動部と、前記ホルダー上の前記被洗浄物に洗浄液を供給する洗浄液供給器と、前記ホルダー上の前記被洗浄物上の液体を乾燥させるための乾燥用蒸気を前記洗浄チャンバー内に供給する乾燥用媒体供給器と、を備えた洗浄乾燥装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 ,  F26B 3/04 ,  F26B 5/08

FI (4件)：

H01L 21/304 651 H ,  H01L 21/304 651 B ,  F26B 3/04 ,  F26B 5/08