特許

J-GLOBAL ID：200903064113360139

薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者： 小室 又洋 ,  岡田 智弘 ,  佐野 雅章 ,  府山 盛明 ,  福井 宏 ,  芳田 伸雄
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-269630
公開番号（公開出願番号）：特開平10-116402
出願日： 1996年10月11日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：

【要約】【課題】基板上にホトレジストやPMGI等からなるフレームを形成する工程とフレームにアンダーカットを形成する工程と、フレームを用いて上下磁極層とギャップ層を形成する工程とフレームを除去する工程を含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。【解決手段】基板上にフレームを形成する工程とフレームにアンダーカットを形成する工程と、前記フレームを用いて上下磁極層とギャップ層を形成する工程と前記フレームを除去する工程を含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。

請求項（抜粋）：

基板上にフレームを形成する工程とフレームにアンダーカットを形成する工程と、前記フレームを用いて上下磁極層とギャップ層を形成する工程と前記フレームを除去する工程を含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。

FI (2件)：

G11B 5/31 A ,  G11B 5/31 D