パターン形成方法、デバイスとその製造方法、液晶表示装置の製造方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、有機ELデバイスの製造方法、フィールドエミッションディスプレイの製造方法及び電気光学装置並びに電子機器

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：上柳雅誉 , 藤綱英吉 , 須澤修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-099629
公開番号（公開出願番号）：特開2004-311530
出願日： 2003年04月02日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：

【課題】従来と比較し多量の機能液をバンク間に露出した基板上に塗布することによって厚いパターンを形成する。【解決手段】機能液Xを基板P上に塗布してパターンを形成する方法であって、上記基板P上に上記パターンの形成領域に応じたバンクBを形成する工程と、上記バンクBの間34に露出した上記基板P上に上記バンクBに囲まれた領域によって形成される容積よりも多い上記機能液Xを塗布する工程と、塗布した上記機能液Xに所定の処理を施すことによって上記パターン33を形成する工程とを有する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

機能液を基板上に塗布してパターンを形成する方法であって、前記基板上に前記パターンの形成領域に応じたバンクを形成する工程と、前記バンクの間に露出した前記基板上に前記バンクに囲まれた領域によって形成される容積よりも多い前記機能液を塗布する工程と、塗布した前記機能液に所定の処理を施すことによって前記パターンを形成する工程とを有することを特徴とするパターン形成方法。

IPC (6件)：

H01L21/3205 , G02F1/1343 , G09F9/00 , H01L21/288 , H05B33/10 , H05B33/14

FI (6件)：

H01L21/88 B , G02F1/1343 , G09F9/00 330Z , H01L21/288 Z , H05B33/10 , H05B33/14 A

Fターム (69件)：

2H092JA24 , 2H092JB22 , 2H092JB31 , 2H092KB05 , 2H092MA10 , 2H092MA13 , 2H092MA17 , 2H092NA15 , 2H092NA28 , 3K007AB18 , 3K007CC00 , 3K007DB03 , 3K007FA01 , 4M104AA01 , 4M104AA10 , 4M104BB04 , 4M104BB07 , 4M104BB08 , 4M104BB09 , 4M104BB36 , 4M104DD22 , 4M104DD51 , 4M104DD78 , 4M104GG08 , 4M104HH16 , 4M104HH20 , 5F033GG00 , 5F033GG03 , 5F033GG04 , 5F033HH00 , 5F033HH07 , 5F033HH11 , 5F033HH13 , 5F033HH14 , 5F033HH35 , 5F033HH38 , 5F033HH40 , 5F033MM01 , 5F033PP26 , 5F033QQ08 , 5F033QQ09 , 5F033QQ10 , 5F033QQ19 , 5F033QQ25 , 5F033QQ91 , 5F033QQ96 , 5F033RR04 , 5F033RR06 , 5F033RR21 , 5F033RR22 , 5F033RR24 , 5F033SS11 , 5F033TT04 , 5F033VV15 , 5F033WW00 , 5F033XX00 , 5F033XX10 , 5G435AA14 , 5G435AA17 , 5G435BB02 , 5G435BB05 , 5G435BB06 , 5G435BB12 , 5G435CC09 , 5G435HH12 , 5G435HH14 , 5G435HH18 , 5G435KK05 , 5G435KK10

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