特許
J-GLOBAL ID：200903064120161397
局所真空処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤島 洋一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-120632
公開番号（公開出願番号）：特開2000-311882
出願日： 1999年04月27日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 被加工物に対して安定した真空処理を行うことができ、真空処理のサイクル時間も比較的短く、且つ、構造が簡単な局所真空処理装置を提供する。【解決手段】 被加工物1を所定の位置に位置決めした後、不活性ガス導入口6から真空槽3内に不活性ガスを導入し、真空槽3内の気圧を大気圧以上にした状態で、支点軸12を中心に弁部10のアーム13を90度左回り方向に回転させて弁体11を開口部2から離脱させ、被加工物の位置まで真空槽を下降移動させて開口部を被加工物で閉じた後、被加工物上における開口部の投影面積部分のエッチングを行う。次に、不活性ガス導入口6から真空槽内に不活性ガスを導入して気圧を大気圧以上にした状態で、アーム13を90度右回り方向に回転させ、弁体をOリング7に均一に密着して開口部を閉じる。このため、電極部5の表面は大気中の酸素により酸化することはない。
請求項（抜粋）：
被加工物の一部分に対して局所的に真空処理を行う局所真空処理装置であって、気圧制御が適宜行われる気圧制御空間で、前記被加工物の一部分と反応させる反応種を生成する反応種生成部と、前記反応種の出口となると共に前記被加工物の一部分が密着される開口部と、前記気圧制御空間に不活性ガスを導入する不活性ガス導入部とを有する真空槽と、前記開口部に密着する密着面が形成された弁体を有し、前記開口部の開閉を行う弁部と を備えたことを特徴とする局所真空処理装置。
Fターム (12件)：
5F004AA15
, 5F004BA04
, 5F004BA13
, 5F004BA20
, 5F004BB11
, 5F004BB18
, 5F004BC01
, 5F004BD05
, 5F004CA01
, 5F004DA01
, 5F004DA26
, 5F004DB03
