特許

J-GLOBAL ID：200903064138119576

表示用基板およびその実装構造

発明者： 稲田 紀世史 ,  塩田 素二 ,  ▲吉▼田 裕一 ,  田草 康伸
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-306672
公開番号（公開出願番号）：特開平7-159804
出願日： 1993年12月07日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：

【要約】【目的】 プロセス変動の影響を受けず高歩留で作製でき、良好な表示品位を得ることができる表示用基板およびその実装構造を提供する。【構成】 基板面に、この基板面の周縁部から内部の表示領域へ信号を伝え又は電源を印加するための配線46a,46bを有する。配線46a,46bのパターンは、上記基板面に接して設けられたTa膜29と、このTa膜29上に設けられたITO膜30とからなる2層膜で形成されている。配線46a,46bのパターンの少なくとも一部の領域で、Ta膜29とITO膜30との間にTi膜40が設けられている。配線46aの基板周辺側の端部に、駆動用IC24の出力側電極28aが接続される一方、配線46bの表示領域側の端部に駆動用IC24の入力側電極28bが接続されている。配線46bの基板周辺側の端部にフレキシブル配線板33の出力端子35が接続されている。

請求項（抜粋）：

平面型表示装置の一部を構成するための表示用基板であって、基板面に、この基板面の周縁部から内部の表示領域へ信号を伝えるための配線を有する表示用基板において、上記配線のパターンは、上記基板面に接して設けられたタンタル膜と、このタンタル膜上に設けられた錫添加酸化インジウム膜とからなる2層膜で形成され、上記配線のパターンの少なくとも一部の領域で、上記タンタル膜と錫添加酸化インジウム膜との間にチタン膜が設けられていることを特徴とする表示用基板。

IPC (2件)：

G02F 1/1345 ,  G09F 9/00 301

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-012638
  
• 特開平4-093927
  
• 特開平4-177224