特許

J-GLOBAL ID：200903064144016010

耐光性の改善されたポリフェニレンエーテル系樹脂組成物

発明者： 井上 一成
出願人/特許権者： 日本ジーイープラスチックス株式会社
代理人 (1件)： 松井 光夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-220610
公開番号（公開出願番号）：特開平6-049350
出願日： 1992年07月28日
公開日（公表日）： 1994年02月22日
要約：

【要約】【目的】 耐光性の改善されたポリフェニレンエーテル系樹脂組成物の提供。【構成】 A)a1) ポリフェニレンエーテル系樹脂または a2)ポリフェニレンエーテル系樹脂とスチレン系樹脂との合計 100重量部、及びB)ヒンダードアミン系光安定剤としての機能を有する分子とケイ素化合物とがカルボン酸エステル基で結合された構造の特定の化合物0.01〜5重量部から成る、耐光性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物が提供された。該樹脂組成物は、耐光性に優れ、かつ良好な耐衝撃性及び耐熱性を示す。

請求項（抜粋）：

A)a1) ポリフェニレンエーテル系樹脂または a2)ポリフェニレンエーテル系樹脂とスチレン系樹脂との合計 100重量部、及びB)式 R-An Bn'-R'(ここで、Aは次式【化1】で表される二価の基であり;Bは次式【化2】で表される二価の基であり;n個のR1 及び2n個のR2 は夫々独立して、水素原子、C 1〜12アルキル基またはアリール基であり;R、R' 、n個のR3 、並びにn'個のR4 及びR5 は、夫々独立して水素原子、C 1〜8 アルキル基、アリール基、もしくはアルキル基の炭素数が1〜8のアラルキル基であるか、またはR、R' 及びR3 〜R5 の内の二つが一つの-O-を表してシロキサン環を形成し;Xは式-Cm H2m-C(=O)O-で表される基であり、mは1〜3の整数であり;Yは、AがRと結合する場合のみ単結合、そうでない場合は酸素原子であり;nは1以上の整数であり、n'は0以上の整数であり;AとBとは夫々ブロックを成していても、ランダムに結合していても良い)で示される化合物0.01〜5重量部から成る、耐光性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物。

IPC (9件)：

C08L 71/12 LQP ,  C08L 71/12 LQM ,  C08K 5/54 ,  C08L 25/04 LED ,  C08L 25/04 LEE ,  C08L 55/02 LMC ,  C08L 55/02 LMF ,  C08L 71/12 ,  C08L 83:16