特許

J-GLOBAL ID：200903064153188975

処理装置

発明者： 小美野 光明
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 亀谷 美明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-141156
公開番号（公開出願番号）：特開平7-326584
出願日： 1994年05月30日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：

【要約】【目的】 処理装置の載置台/リフトピン駆動機構を簡略化する。【構成】 本装置は、載置台(3)を処理室(2)に対して定位置に保持された被処理体に対して離隔接近駆動する載置台駆動手段(40〜43)と、載置台(3)に対して相対運動可能であり定位置にある被処理体を支持可能なリフタピン(30)と、処理室により支持されてリフタピンを定位置方向に付勢する付勢手段(38)と、リフタピンが付勢手段により定位置より前進しないように制限する第1の制限手段(35)と、さらにリフタピンを載置台よりも所定量以上先行しないように制限するための第2の制限手段(37)を備えているので、載置台の昇降運動と連動してリフトピンを最適に駆動できる。

請求項（抜粋）：

気密処理室内に設けられた載置台に載置された被処理体に対してプラズマまたは熱による処理を施すための処理装置において、前記載置台と前記処理室内の定位置に搬入された被処理体とを相対的に移動させて前記被処理体を前記載置台に設置する載置台駆動手段と、前記載置台に対して相対運動可能であり、前記定位置にある被処理体を支持可能なリフタピンと、前記リフタピンを前記被処理体が搬入された前記定位置方向に付勢する付勢手段と、前記リフタピンが前記付勢手段により前記定位置より前進しないように制限する第1の制限手段と、を備えたことを特徴とする、処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/68