低熱膨張セラミックスおよびその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-292765
公開番号（公開出願番号）：特開平11-130520
出願日： 1997年10月24日
公開日（公表日）： 1999年05月18日
要約：

【要約】【課題】低熱膨張を有するとともに高剛性を有する低熱膨張セラミックスとその製造方法を提供する。【解決手段】コージェライトを80〜92重量%、希土類元素(RE)の酸化物を8〜20重量%の割合で配合した成形体、さらには、この成形体を真空中で1300〜1500°Cの温度で焼成した後、1000°Cまでを10°C/min以下の速度で冷却して、コージェライトを主相として、その粒界にRE2 O3 ・2SiO2 で表される結晶相を析出させて、相対密度95%以上、10〜40°Cにおける熱膨張率が0.5×10-6/°C以下、ヤング率が120GPa以上の、特に露光装置用ステージなどの半導体製造装置用部品等に適した低熱膨張セラミックスを得る。

請求項（抜粋）：

コージェライトを80〜92重量%、希土類元素(RE)の酸化物を8〜20重量%の割合で含み、相対密度95%以上であり、且つコージェライト結晶の粒界に、RE2 O3 ・2SiO2 で表されるダイシリケート結晶相が析出してなることを特徴とする低熱膨張セラミックス。

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開平2-026863
特開昭57-038371
特開昭54-100409

審査官引用 (3件)

特開平2-026863
特開昭57-038371
特開昭54-100409

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