特許
J-GLOBAL ID：200903064177599267
清拭シート用基材
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
羽鳥 修 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-096469
公開番号（公開出願番号）：特開2000-287864
出願日： 1999年04月02日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：
【要約】【課題】 担持される粉体を効率よく清拭対象面へ転着し得る清拭シート用基材を提供すること。【解決手段】 粉体が担持される清拭シート用基材において、乾燥時における、前記基材表面の水銀圧入法により測定された平均細孔直径Dが、前記粉体の平均粒径dとの比(D/d)に関してD/d=0.03〜30を満たし、前記基材のバルクソフトネスが0.1〜5N/30mmで且つ厚みが0.3〜5mmである清拭シート用基材。
請求項（抜粋）：
粉体が担持される清拭シート用基材において、乾燥時における、前記基材表面の水銀圧入法により測定された平均細孔直径Dが、前記粉体の平均粒径dとの比(D/d)に関してD/d=0.03〜30を満たし、前記基材のバルクソフトネスが0.1〜5N/30mmで且つ厚みが0.3〜5mmである清拭シート用基材。
引用特許：
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