特許
J-GLOBAL ID：200903064184882071
露光装置およびフォトレジストの形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺澤 襄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-254536
公開番号（公開出願番号）：特開2002-072490
出願日： 2000年08月24日
公開日（公表日）： 2002年03月12日
要約：
【要約】【課題】 処理能力を向上でき、処理コストを低減できる露光装置を提供する。【解決手段】 露光ステージ21の中心域に紫外線吸収領域を形成する。紫外線吸収領域の外周域に紫外線反射領域23を形成する。ガラス基板12のパターン形成領域13下に紫外線吸収領域を位置し、ガラス基板12のパターン形成不要領域14下に紫外線反射領域23を位置させる。水銀ランプから紫外線Rを照射する。紫外線吸収領域が紫外線Rを吸収し、紫外線反射領域23が紫外線Rを反射する。パターン形成不要領域14をパターン形成領域13より露光できる。1回の露光のみで不要なフォトレジストを溶解除去できる。処理能力を向上でき、ガラス基板12の処理コストを低減できる。
請求項（抜粋）：
紫外線吸収領域および紫外線反射領域を備えた露光ステージと、この露光ステージから離間して位置し、この露光ステージ上に設置され紫外線を透過する被露光体に紫外線を照射する光源とを具備していることを特徴とした露光装置。
Fターム (3件)：
2H097CA12
, 2H097GB00
, 2H097LA09
