特許
J-GLOBAL ID：200903064185438671
4-フェニルブチルハライドの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-099614
公開番号（公開出願番号）：特開平11-292808
出願日： 1998年04月10日
公開日（公表日）： 1999年10月26日
要約：
【要約】【課題】 4-フェニルブチルハライドの製造方法を提供すること。【解決手段】 一般式(1)(式中、X、X'は同一または相異なってハロゲン原子を示す。)で示される4-ハロブチリルハライドと一般式(2)(式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシル基を示す。)で示されるベンゼン類をルイス酸存在下、反応させ一般式(3)(式中、RおよびXは前記と同じ意味を有する。)で示される4-ハロブチロフェノン誘導体を得、ついでこれに金属触媒存在下、水素を反応させる一般式(4)(式中、RおよびXは前記と同じ意味を有する。)で示される4-フェニルブチルハライドの製造方法。
請求項（抜粋）：
一般式(1)(式中、X、X'は同一または相異なってハロゲン原子を示す。)で示される4-ハロブチリルハライドと一般式(2)(式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシル基を示す。)で示されるベンゼン類をルイス酸存在下、反応させ一般式(3)(式中、RおよびXは前記と同じ意味を有する。)で示される4-ハロブチロフェノン誘導体を得、ついでこれに金属触媒存在下、水素を反応させることを特徴とする一般式(4)(式中、RおよびXは前記と同じ意味を有する。)で示される4-フェニルブチルハライドの製造方法。
IPC (6件)：
C07C 22/04
, B01J 23/44
, B01J 27/125
, C07C 17/354
, C07C 25/02
, C07B 61/00 300
C07C 22/04
, B01J 23/44 X
, B01J 27/125 X
, C07C 17/354
, C07C 25/02
, C07B 61/00 300
