特許
J-GLOBAL ID:200903064187494102

光造形簡易型及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡部 温
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-087253
公開番号(公開出願番号):特開平7-276507
出願日: 1994年04月04日
公開日(公表日): 1995年10月24日
要約:
【要約】【目的】 高価な光硬化樹脂の使用量が少なくてすみ、製造時の変形のおそれがない光造形簡易型及びその製造方法を提供する。さらに、造形後の機械加工の容易な光造形簡易型及びその製造方法を提供する。【構成】 本発明の光造形簡易型1は、基体(基準プレート)21と、この基体21上に光造形された形状転写用造形部11と、を具備する。基体は、例えば、表面機械加工された鋼製プレートである。このように構成されているので、基体21と形状転写用造形部11とを一体で取り扱う(光造形装置から取り外す、機械加工する、使用される機械に取り組む、等)ことができる。そのため、変形のおそれが無くなる。あるいは、基体の分だけ、光硬化樹脂の必要量が減る。さらには、光造形後の機械加工も楽で正確になる。
請求項(抜粋):
基体と、この基体上に光造形された形状転写用造形部と、を具備することを特徴とする光造形簡易型。
IPC (4件):
B29C 67/00 ,  B29C 33/38 ,  B29C 35/08 ,  B29K105:24
引用特許:
出願人引用 (8件)
  • 特開平4-208411
  • インモールド成形方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-209329   出願人:富士通株式会社
  • 特開昭60-019529
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審査官引用 (8件)
  • 特開平4-208411
  • 特開平4-208411
  • 光硬化樹脂を用いる射出成形型製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-321227   出願人:中川威雄, シーメツト株式会社
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