特許

J-GLOBAL ID：200903064205496479

光デイスクの製造方法

発明者： 高橋 伸 ,  奥山 登志夫
出願人/特許権者： 東亞合成化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-319740
公開番号（公開出願番号）：特開平5-135415
出願日： 1991年11月08日
公開日（公表日）： 1993年06月01日
要約：

【要約】【目的】 高信頼性を確保しつつ、光ディスク用基板を短時間に接着させることができる光ディスクの製造方法を提供する。【構成】 下記A成分、B成分及びC成分からなる光硬化型接着剤を、基板の被接着面に塗布した後、両者を圧着し、被接着面に光を照射することを特徴とする光ディスクの製造方法。A:ラジカル重合性ビニル化合物。B:α-ジケトン。C:下式〔1〕で表される増感剤。【化1】(ただし、基Q1 及び基Q2 は、ジアルキルアミノ基である。)

請求項（抜粋）：

二枚の基板を接着することにより光ディスクを得るに際して、下記A成分、B成分及びC成分からなる光硬化型接着剤を、前記基板の一方又は両方の被接着面に塗布した後、両者を圧着し、被接着面に光を照射することを特徴とする光ディスクの製造方法。A:ラジカル重合性ビニル化合物。B:α-ジケトン。C:下式〔1〕で表される増感剤。【化1】(ただし、基Q1 及び基Q2 は、カルボニル基に対して互いに独立して、o、m、又はp位に結合した、互いに同じであるか異なるジアルキルアミノ基である。)

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭61-190738
  
• 特開平2-003132
  
• 特開平1-163204
  
• 特開昭54-077685