特許

J-GLOBAL ID：200903064206811041

毛髪化粧料

発明者： 上山 健一 ,  徳永 晋一
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (11件)： 特許業務法人アルガ特許事務所 ,  有賀 三幸 ,  高野 登志雄 ,  中嶋 俊夫 ,  村田 正樹 ,  山本 博人 ,  的場 ひろみ ,  守屋 嘉高 ,  大野 詩木 ,  松田 政広 ,  野中 信宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-247051
公開番号（公開出願番号）：特開2008-069083
出願日： 2006年09月12日
公開日（公表日）： 2008年03月27日
要約：

【課題】ヘアカラー等の傷みの蓄積による毛髪の跳ねやうねりを傷む前の状態に回復させることができ、また毛髪のツヤ、なめらかさ及びまとまり性を向上させることのできる毛髪化粧料の提供。【解決手段】成分(A)を含有する毛髪化粧料。 (A) 一般式(1)で表され、全炭化水素基R1中、炭素数10以下の炭化水素基の占める割合が、R1の化学式量として30〜100質量%、残余が炭素数11以上の炭化水素基である第4級アンモニウム塩〔R1は、炭素数6〜18の炭化水素基を示し、R2及びR3は同一でも異なってもよい炭素数1〜3のアルキル基を示し、nは0〜2の整数を示し、X-はアニオンを示す。〕【選択図】なし

請求項（抜粋）：

成分(A)を含有する毛髪化粧料。 (A) 一般式(1)で表され、全炭化水素基R1中、炭素数10以下の炭化水素基の占める割合が、R1の化学式量として30〜100質量%、残余が炭素数11以上の炭化水素基である第4級アンモニウム塩

IPC (2件)：

A61K 8/41 ,  A61Q 5/00

FI (2件)：

A61K8/41 ,  A61Q5/00

Fターム (13件)：

4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC172 ,  4C083AC302 ,  4C083AD072 ,  4C083AD161 ,  4C083AD162 ,  4C083CC31 ,  4C083DD08 ,  4C083DD23 ,  4C083DD41 ,  4C083EE28 ,  4C083EE29

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 毛髪化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-388913   出願人：花王株式会社
• 毛髪化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-329573   出願人：花王株式会社
• 毛髪処理剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-093060   出願人：花王株式会社
• 毛髪化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-280373   出願人：花王株式会社