特許

J-GLOBAL ID：200903064210753099

オゾン接触反応槽

発明者： 石田 宏司 ,  鳥山 明夫 ,  上坂 太一
出願人/特許権者： 株式会社クボタ
代理人 (1件)： 森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-170253
公開番号（公開出願番号）：特開平5-015884
出願日： 1991年07月11日
公開日（公表日）： 1993年01月26日
要約：

【要約】【構成】 適当深さを有する反応槽22と、反応槽22に浸漬して上下方向に配設された内管25と、内管25に被処理水23を下向流で供給する受入槽24と、内管25にオゾン化空気を供給するオゾン化空気供給管26と、内管25に配設されてオゾン遊離基の生成を促進する触媒層27とを設けた。【効果】 内管25を気液二相流の下向流となって降下するオゾン化空気のオゾンが被処理水23に高効率で溶解するとともに、触媒槽27の触媒作用を受けてオゾン遊離基が生成するので、内管25および反応槽22に滞留する被処理水23の有機物を、溶解したオゾンによる直接のオゾン酸化とオゾン遊離基の遊離基反応による酸化作用によって短時間で高効率に酸化することができ、被処理水23の槽滞留時間を短縮し、槽体積を減少させることができる。

請求項（抜粋）：

適当深さを有する反応槽と、反応槽内に浸漬して上下方向に配設された内管と、内管に被処理水を下向流で供給する被処理水供給手段と、内管内にオゾン化空気を供給するオゾン化空気供給手段と、内管内に配設されてオゾン遊離基の生成を促進する触媒層とを設けたことを特徴とするオゾン接触反応槽。

IPC (2件)：

C02F 1/78 ,  B01F 3/04

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-077592
  
• 特開昭52-007874