薄膜磁気ディスク

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：武顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-035096
公開番号（公開出願番号）：特開平5-234069
出願日： 1992年02月21日
公開日（公表日）： 1993年09月10日
要約：

【要約】【目的】表面に方向性凹凸加工(テクスチャ加工)をした磁気ディスクで、最良の磁気特性(磁気異方性)を得るための中間膜面及び磁性膜面の凹凸加工の程度を定量的に求める。【構成】ディスクの中間膜と磁性膜は円周方向に加工溝を付けた基板(硬質下地膜)上にエピタキシャル成長により順に成膜され、これら膜上に基板と同様な加工溝が形成される。中間膜及び磁性膜の結晶配向面の角度分布(ばらつき)は、X線回折極図形の回折強度半値幅(角度)で定量的に測定される。円周方向の加工溝のため、結晶配向面角度分布は、円周方向で狭く半径方向で広く、極図形のX線回折強度半値幅の角度分布でみて、円周方向で5°以内、半径方向で円周方向の2〜5倍(図1)とするように加工溝を付与するとき、最良の磁気特性が得られる。

請求項（抜粋）：

基板上に順に金属中間膜及び金属磁性薄膜を形成した薄膜磁気ディスクにおいて、前記金属磁性薄膜を構成する結晶の磁気容易軸を磁気ディスク面内に向けたときの、X線回折極図形による前記金属磁性薄膜の結晶配向面の円周方向のX線回折強度の半値幅が5°以内の角度に分布するように構成したことを特徴とする薄膜磁気ディスク。

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