特許
J-GLOBAL ID:200903064214286908

仮保護被膜を有する光学素子、光学機器、半導体露光装置、及び半導体露光装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-001919
公開番号(公開出願番号):特開平11-194202
出願日: 1998年01月07日
公開日(公表日): 1999年07月21日
要約:
【要約】【課題】 従来の光学素子はその表面に付着した異物のため、光学性能が低下する問題があった。本発明の課題は、異物の付着がないために光学性能の低下がない光学素子、さらには本光学素子を組み込んだ光学機器、特に投影露光装置、及び投影露光装置の製造方法を提供することである。【解決手段】 光学素子の表面に主鎖がフッカ炭素、または炭化水素であり、基板表面と化学結合をしない末端基を有する有機物を形成して成る仮保護被膜を形成し、その仮保護被膜を光照射によって除去することによって、異物の付着がないために光学性能の低下がない光学機器を得ることが出来るようになった。
請求項(抜粋):
フッ化炭素または炭化水素から成る主鎖と、0個または2個以下の水酸基と、光学素子の最外層物質と化学結合しない基とを有する有機分子物質から形成されて成り、且つ紫外線照射により除去可能な仮保護被膜を表面上に有することを特徴とする光学素子。
IPC (5件):
G02B 1/10 ,  B29D 11/00 ,  C03C 17/28 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027
FI (5件):
G02B 1/10 Z ,  B29D 11/00 ,  C03C 17/28 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D

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