特許
J-GLOBAL ID:200903064221589401
基板表面の評価方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井内 龍二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-337642
公開番号(公開出願番号):特開2001-153815
出願日: 1999年11月29日
公開日(公表日): 2001年06月08日
要約:
【要約】【課題】 基板が真円の薄板形状以外の形状をしていても、また、基板のサイズが評価装置のステ-ジの可動範囲よりも大きなサイズのものであったとしても、評価装置を用いた特定箇所の観察・分析を可能にする基板表面の評価方法を提供すること。【解決手段】 基板表面及び表面近傍に存在する結晶欠陥、付着異物、傷等を異物位置検査装置及び評価装置を使用して観察評価、あるいは分析評価する基板表面の評価方法において、異物位置検査装置の有する装置座標と、評価装置の有するステ-ジ座標との座標合わせの際に基準として使用する微小マ-クを、基板表面の所定箇所に形成する。
請求項(抜粋):
基板表面及び表面近傍に存在する結晶欠陥、付着異物、傷等(以下、これらをまとめて欠陥等と記す)を異物位置検査装置及び評価装置を使用して観察評価、あるいは分析評価する基板表面の評価方法において、前記異物位置検査装置の有する装置座標と、前記評価装置の有するステ-ジ座標との座標合わせの際に基準として使用する微小マ-クを、前記基板表面の所定箇所に形成する工程を含むことを特徴とする基板表面の評価方法。
IPC (3件):
G01N 21/956
, G01N 21/958
, H01L 21/66
FI (4件):
G01N 21/956 A
, G01N 21/958
, H01L 21/66 J
, H01L 21/66 N
Fターム (22件):
2G051AA51
, 2G051AA90
, 2G051AB02
, 2G051BA10
, 2G051DA07
, 2G051DA15
, 4M106AA01
, 4M106BA02
, 4M106BA05
, 4M106CA38
, 4M106CA41
, 4M106CB19
, 4M106DA05
, 4M106DA15
, 4M106DB01
, 4M106DB05
, 4M106DB18
, 4M106DH01
, 4M106DH60
, 4M106DJ02
, 4M106DJ07
, 4M106DJ18
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