特許
J-GLOBAL ID：200903064235928608
半溶融加工用ビレット誘導加熱装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-248628
公開番号（公開出願番号）：特開平8-085826
出願日： 1994年09月16日
公開日（公表日）： 1996年04月02日
要約：
【要約】【目的】 設備がコンパクトで低価格な半溶融加工用ビレット誘導加熱装置の提供を目的とする。【構成】 入り口7から出口8まで水平に延びると共に、断熱壁3で囲まれることによって形成された筒状加熱室2の外周にコイル6を巻き、該筒状加熱室2の底面にはスライドレ-ル9を敷設すると共に、前記出口8部位には受取トレイ10を前記スライドレ-ルに延長させて駆動手段11により接離可能に配設し、該受取トレイ10は同一の駆動手段11あるいは別の駆動手段14により任意の位置まで引き出し可能とされており、かつ入口7外方にはビレットの押し込み手段16を配設したことを特徴とする半溶融加工用ビレット誘導加熱装置
請求項（抜粋）：
入り口7から出口8まで水平に延びると共に、断熱壁3により囲まれることによって形成された筒状加熱室2の外周にコイル6を巻き、該筒状加熱室2の底面にはスライドレ-ル9を敷設すると共に、前記出口8部位には受取トレイ10を前記スライドレ-ル9に延長させて駆動手段11により接離可能に配設し、該受取トレイ10は同一の駆動手段11あるいは別の駆動手段14によって該加熱室2から任意の位置まで引き出し可能とされており、かつ入り口7外方にはビレットの押し込み手段16を配設したことを特徴とする半溶融加工用ビレット誘導加熱装置
IPC (2件)：
C21D 9/00 101
, C21D 1/42
