特許
J-GLOBAL ID:200903064249227947

洗浄方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 尾川 秀昭
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-180238
公開番号(公開出願番号):特開平5-003186
出願日: 1991年06月24日
公開日(公表日): 1993年01月08日
要約:
【要約】【目的】 半導体ウェハのリンスを過不足なく行い、リンス液等の無駄をなくす。【構成】 リンスに使用したリンス液の汚染度をセンサーにより検出し、その結果に従ってリンス液供給停止タイミング等リンス条件をコントロールする。
請求項(抜粋):
被洗浄物を洗浄液により洗浄する洗浄方法において、被洗浄物を洗浄した洗浄液の汚染度を検出し、上記汚染度の検出結果に基づいて洗浄条件の制御を行うことを特徴とする洗浄方法
引用特許:
審査官引用 (14件)
  • 特開昭62-176585
  • 特開昭63-308321
  • 特開昭62-176583
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