特許
J-GLOBAL ID:200903064249279483

塗布装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉谷 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-164851
公開番号(公開出願番号):特開平11-354419
出願日: 1998年06月12日
公開日(公表日): 1999年12月24日
要約:
【要約】【課題】 塗布液の形状が特定の形状となったことに基づいて基板の回転を加速することにより、基板の表面に安定して塗布液を少なく均一に塗布被膜を形成できる。【解決手段】 供給ノズル5から基板Wに供給された塗布液が周縁部に拡がって基板Wの表面全体を覆う前に、電動モータ3で基板Wの回転を加速することにより塗布被膜を形成する塗布装置において、基板Wの表面を撮影するCCDカメラ25と、処理前に、基板Wの表面全体を塗布液が覆う前までの特定時点における塗布液の形状を予め撮影して特定形状として記憶する画像メモリと、処理時に、塗布液の処理時形状が画像メモリに記憶されている特定形状と一致したことを判別する画像処理部と、形状が一致した時点で電動モータ3による加速を開始するように制御する制御部20とを備えている。
請求項(抜粋):
塗布液供給手段から基板に供給された塗布液が周縁部に拡がって基板の表面全体を覆う前に、回転支持手段で基板の回転を加速することにより塗布被膜を形成する塗布装置において、基板の表面で周縁部に向かって拡がってゆく塗布液を撮影する撮影手段と、基板の表面全体を塗布液が覆う前までの特定時点における塗布液の形状を前記撮影手段により予め撮影して特定形状として記憶する記憶手段と、前記撮影手段により撮影を行い、塗布液の処理時形状が前記記憶手段に記憶されている特定形状と一致したことを判別する形状判別手段と、前記形状判別手段が形状の一致を判断した時点で前記回転支持手段による基板の回転の加速を開始するように制御する制御手段と、を備えていることを特徴とする塗布装置。
IPC (4件):
H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502
FI (4件):
H01L 21/30 564 C ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 502

前のページに戻る