特許
J-GLOBAL ID：200903064254189000
露光量測定方法と露光量測定用マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-171345
公開番号（公開出願番号）：特開2000-012425
出願日： 1998年06月18日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：
【要約】【課題】 フォーカス変動の影響を受けることなく、露光量を短時間でかつ正確に測定する。【解決手段】 マスクに形成されたマスクパターンをウェハ上に塗布されたレジストに露光することにより、ウェハ上の実効的な露光量を測定する露光量測定方法において、マスクパターンは周期pにて透光部12と遮光部11が繰り返されたパターンであり、かつ透光部12と遮光部11の割合が異なる複数種類を同一マスクに形成し、マスクパターンを露光する際の露光波長をλ、ウェハ側開口数をNA、照明のコヒーレンスファクタをσ、ウェハ上のパターンに対するマスクパターンの倍率をMとするとき、周期pをp/M≦λ/(1+σ)NAを満たすように設定した。
請求項（抜粋）：
マスクパターンが形成されたマスクを、露光波長λ,ウェハ側開口数NA,照明のコヒーレンスファクタσ,ウェハ上のパターンに対するマスクパターンの倍率Mなる露光装置にセットし、ウェハ上に塗布されたレジストにマスクパターンを露光し、該マスクパターンに対応するウェハ上のレジストの状態を観察することにより、ウェハ上の実効的な露光量を測定する露光量測定方法であって、前記マスクパターンは周期pにて透光部と遮光部が繰り返されたパターンであり、かつ透光部と遮光部の割合が異なる複数種類が同一マスクに形成され、前記周期pが、p/M≦λ/(1+σ)NAを満たすように設定されていることを特徴とする露光量測定方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 516 D
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 502 P
