プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：西川惠清 , 森厚夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-339997
公開番号（公開出願番号）：特開2004-179191
出願日： 2002年11月22日
公開日（公表日）： 2004年06月24日
要約：

【課題】均一なプラズマ処理が行いやすいプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】放電ガスが流通するガス供給路1内に大気圧近傍の圧力下で放電を生じさせた後、この放電ガスをガス供給路1外に放出すると共にガス供給路1から放出された放電ガスに被処理物4を暴露させるようにするプラズマ処理装置に関する。被処理物4を暴露させた後の放電ガスを回収するための回収部7と、回収部7で回収された放電ガスから不純物を除去するための再生部8と、再生部8で不純物が除去された放電ガスをガス供給路1に返送するための循環部9とを具備する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

放電ガスが流通するガス供給路内に大気圧近傍の圧力下で放電を生じさせた後、この放電ガスをガス供給路外に放出すると共にガス供給路から放出された放電ガスに被処理物を暴露させるようにするプラズマ処理装置において、被処理物を暴露させた後の放電ガスを回収するための回収部と、回収部で回収された放電ガスから不純物を除去するための再生部と、再生部で不純物が除去された放電ガスをガス供給路に返送するための循環部とを具備して成ることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H01L21/3065 , B01D53/22 , B01J19/08 , B08B7/00 , G02F1/13 , H05H1/24

FI (6件)：

H01L21/302 101E , B01D53/22 , B01J19/08 E , B08B7/00 , G02F1/13 101 , H05H1/24

Fターム (45件)：

2H088FA21 , 2H088FA29 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088MA20 , 3B116AA01 , 3B116AA46 , 3B116AB14 , 3B116BB62 , 3B116BB72 , 3B116BB82 , 3B116BB89 , 3B116BC01 , 3B116CD22 , 3B116CD41 , 4D006GA41 , 4D006HA01 , 4D006MA01 , 4D006MC54 , 4D006PA01 , 4D006PB19 , 4D006PB70 , 4D006PC01 , 4G075AA24 , 4G075AA61 , 4G075CA15 , 4G075CA47 , 4G075DA02 , 4G075EA05 , 4G075EB01 , 4G075EB41 , 4G075EC21 , 4G075ED11 , 4G075EE02 , 4G075FB02 , 4G075FB04 , 4G075FB06 , 4G075FB12 , 4G075FC15 , 5F004AA14 , 5F004BA20 , 5F004BB24 , 5F004DA22 , 5F004DB00 , 5F004EB08

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平3-087025
ヘリウムガスの精製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-330396 出願人：エア・ウォーター株式会社
不活性ガス回収再利用装置付き大気圧プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-383321 出願人：パール工業株式会社

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