フォトレジスト組成物

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-005794
公開番号（公開出願番号）：特開平6-236024
出願日： 1993年01月18日
公開日（公表日）： 1994年08月23日
要約：

【要約】【目的】遠紫外線(エキシマーレーザー等を含む)を光源として用いる露光領域において、感度及び解像度等の諸性能に優れたネガ型及びポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】アルカリ可溶性樹脂、架橋剤及び光酸発生剤を含むネガ型フォトレジストであって、上記光酸発生剤がN-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有することを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物、並びに、アルカリ可溶性樹脂、溶解阻止剤及び光酸発生剤を含むポジ型フォトレジストであって上記光酸発生剤がN-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂、架橋剤及び光酸発生剤を含むネガ型フォトレジスト組成物であって、上記光酸発生剤がN-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有することを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/038 505 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (14件)

特開平2-015270
特開平3-273252
特開平1-293339

全件表示

前のページに戻る