特許

J-GLOBAL ID：200903064268218029

パルス状エキシマレーザー蒸着によって薄膜を作るための方法

発明者： キーテイング,ケネス・バーナード ,  セ,スチーブンス・シントサン
出願人/特許権者： イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
代理人 (1件)： 小田島 平吉 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-510107
公開番号（公開出願番号）：特表平8-502626
出願日： 1993年10月13日
公開日（公表日）： 1996年03月19日
要約：

【要約】パルス状高エネルギーUVレーザーからの放射線によって加熱されたターゲットを衝撃してターゲット材料の雲を生成させ、そしてこの雲を基体の上に堆積させることによって超伝導材料の薄膜を製造するための方法が開示されている。

請求項（抜粋）：

融蝕ターゲットを融蝕に先立ってそしてその間、その融点より約500°C低くに加熱することを含んで成る改善を含む、パルス状レーザー融蝕による基体の上への超伝導薄膜の堆積のための改善された方法。

IPC (9件)：

H01L 39/24 ZAA ,  C01G 1/00 ,  C01G 3/00 ZAA ,  C01G 15/00 ZAA ,  C01G 21/02 ZAA ,  C04B 35/00 ZAA ,  C23C 14/28 ,  H01B 12/06 ZAA ,  H01B 13/00 565