特許
J-GLOBAL ID：200903064269948616
光学面形成方法、成形金型の製造方法及び光学素子
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田村 敬二郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-235724
公開番号（公開出願番号）：特開2003-043210
出願日： 2001年08月03日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：
【要約】【課題】 集束イオンビームを電界や磁界により照射位置を容易にかつ瞬時に制御できることに着目し、非光学面上に光学面を形成し、また、成形金型やマスタ型などの光学面上に直接微細な光学面形状を形成し、その微細形状構造により新たな機能を付加した光学面を容易にかつ高精度に形成することのできる光学面形成方法を提供する。また、かかる方法を用いて光学面が形成された成形金型の製造方法及びかかる成形金型により形成された光学素子を提供する。【解決手段】 この光学面形成方法は、基体10の表面近傍にスポットを結ぶように集束イオンビームbを照射し、基体の表面近傍の雰囲気が集束イオンビームと衝突することによって分子及び/又は原子を発生させ、分子及び/又は原子を基体の表面に付加させて光学面を形成する。
請求項（抜粋）：
基体の表面近傍にスポットを結ぶように集束イオンビームを照射し、前記基体の表面近傍の雰囲気が前記集束イオンビームと衝突することによって分子及び/又は原子を発生させ、前記分子及び/又は原子を前記基体の表面に付加させて光学面を形成することを特徴とする光学面形成方法。
IPC (5件)：
G02B 3/00
, B23K 15/00 508
, B29C 33/38
, G02B 3/02
, B29L 11:00
G02B 3/00 Z
, B23K 15/00 508
, B29C 33/38
, G02B 3/02
, B29L 11:00
4E066BA13
, 4E066CA15
, 4E066CB02
, 4E066CB17
, 4F202AH73
, 4F202CB01
, 4F202CD01
, 4F202CD30
