特許

J-GLOBAL ID：200903064271762031

反応処理装置

発明者： 射谷 和徳
出願人/特許権者： アロカ株式会社
代理人 (2件)： 吉田 研二 ,  石田 純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-113604
公開番号（公開出願番号）：特開2004-313104
出願日： 2003年04月18日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：

【課題】従来にない新しい構造の反応処理装置を提供する。【解決手段】反応処理装置10は、発振器11、同軸ケーブル12、導波管13、同軸ケーブル14、ダミーロード15から構成される。この反応処理装置10の導波管13に、サンプルが定着されたサンプルプレート90が挿入され、マイクロ波が照射されることにより、マイクロ波の電磁場により試薬の荷電分子が振動して加温され、サンプルの試薬反応が促進される。サンプルの温度を検出して試薬反応を制御したり、導波管13にスタブチューナを設置してマイクロ波の反射波を抑制してもよい。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

試薬湿潤状態にあるサンプルが定着されたサンプルプレートが挿入される挿入口を有した中空の導波管と、 前記導波管の一端に接続され、前記導波管内に電波を供給する電波供給手段と、 を備え、 前記サンプルプレートに電波を照射し、前記サンプルの試薬反応を促進することを特徴とする反応処理装置。

IPC (3件)：

C12M1/42 ,  B01J19/12 ,  G01N37/00

FI (3件)：

C12M1/42 ,  B01J19/12 A ,  G01N37/00 101

Fターム (17件)：

4B029AA23 ,  4B029AA24 ,  4B029AA27 ,  4B029BB01 ,  4B029BB15 ,  4B029BB20 ,  4B029CC02 ,  4B029CC03 ,  4B029CC08 ,  4G075AA22 ,  4G075BA10 ,  4G075CA26 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EB31 ,  4G075ED13 ,  4G075EE12