特許

J-GLOBAL ID：200903064290825419

ブラツクマトリツクスを有する着色パターンの形成方法

発明者： 小嶋 大輔 ,  木暮 英雄 ,  中谷 ▲栄▼作
出願人/特許権者： 関西ペイント株式会社
代理人 (1件)： 小田島 平吉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-271543
公開番号（公開出願番号）：特開平10-096812
出願日： 1996年09月20日
公開日（公表日）： 1998年04月14日
要約：

【要約】【課題】 微細で長期性能に優れた着色パターンを、少ない工程数で安定して形成できる方法を提供する。【解決手段】 (1)透明基板上に、金属又は金属酸化物の蒸着膜からなるブラックマトリックスを形成する工程、(2)必要に応じて、該蒸着膜上に電解メッキにより金属膜を析出させてブラックマトリックスを増膜させる工程、(3)着色樹脂塗材を透明基板上に塗装して着色樹脂被膜を形成する工程、及び(4)該着色樹脂被膜にレーザー光をパターン状に照射してレーザー光照射部を除去する工程を行なった後、異なる色の着色樹脂被膜を形成できる着色樹脂塗材を用いて、上記工程(3)及び工程(4)を色数に応じて必要回数(0回も含む)繰り返し、次いで工程(3)により最後の着色樹脂被膜を形成した後、着色樹脂被膜表面を研磨して着色樹脂被膜表面を平滑化することからなるブラックマトリックスを有する多色の着色パターンの形成方法。

請求項（抜粋）：

(1)透明基板上に、金属又は金属酸化物の蒸着膜からなるブラックマトリックスを形成する工程、(2)必要に応じて、該蒸着膜上に電解メッキにより金属膜を析出させてブラックマトリックスを増膜させる工程、(3)着色顔料を分散した着色樹脂塗材をブラックマトリックスを形成した透明基板上に塗装して着色樹脂被膜を形成する工程、及び(4)該着色樹脂被膜にレーザーアブレージョン法によりレーザー光をパターン状に照射してレーザー光照射部を除去する工程により、該パターン状の着色樹脂被膜を形成した透明基板上に、該パターン状の着色樹脂被膜と異なる色の着色樹脂被膜を形成しうる着色樹脂塗材を用いて、上記工程(3)及び工程(4)を色数に応じて必要回数(0回も含む)繰り返し、次いで工程(3)により最後の異なる色の着色樹脂被膜を形成した後、着色樹脂被膜表面を研磨して着色樹脂被膜表面を平滑化することを特徴とするブラックマトリックスを有する多色の着色パターンの形成方法。

IPC (7件)：

G02B 5/20 101 ,  B41M 5/26 ,  G02F 1/1335 500 ,  G02F 1/1335 505 ,  G03F 7/105 501 ,  G03F 7/36 ,  G03F 7/40 521

FI (7件)：

G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 500 ,  G02F 1/1335 505 ,  G03F 7/105 501 ,  G03F 7/36 ,  G03F 7/40 521 ,  B41M 5/26 S