特許

J-GLOBAL ID：200903064299514289

化学除染方法およびその装置

発明者： 高橋 陵太 ,  金崎 健
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-261637
公開番号（公開出願番号）：特開平10-104396
出願日： 1996年10月02日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：

【要約】【課題】 通常の大気存在下で除染を行なうことができ、除染対象物上の酸化皮膜を酸化処理する場合も、還元剤溶液と酸化剤溶液との交換を行なうことなく、二次廃棄物量を低減することができる化学除染方法とその装置を提供する。【解決手段】 本発明の方法は、電極反応により2価希土類錯体を還元生成する工程と、この工程で還元生成された2価希土類錯体により、除染対象物上の汚染物質を含む酸化皮膜等を還元溶解する工程と、この還元溶解工程で溶出した金属イオンを電極上に析出回収する工程と、酸化剤により酸化皮膜を酸化する酸化処理工程と、希土類錯体を回収する除染剤回収工程とを備えている。また、本発明の装置は、カソード、アノード、参照電極およびポテンショスタットを有し、希土類錯体を含む除染液を収容した電解槽と、この電解槽と除染対象物とを含む除染ループと、希土類イオンの電解回収槽を含む除染剤回収ループと、除染液を循環させるポンプとを備えている。

請求項（抜粋）：

電極反応により2価の希土類イオンの錯体を還元生成する還元生成工程と、前記還元生成工程で還元生成された2価希土類イオンの錯体により、除染対象物上の汚染物質を含む酸化皮膜およびスケールを還元し溶解させる還元溶解工程と、前記還元溶解工程で溶出した金属イオンを電極上に析出回収する析出回収工程と、酸化剤により前記酸化皮膜を酸化する酸化処理工程と、前記希土類イオンの錯体を回収する除染剤回収工程とを備えたことを特徴とする化学除染方法。

IPC (4件)：

G21F 9/28 571 ,  G21F 9/28 ,  G21F 9/28 ZAB ,  B08B 3/08

FI (4件)：

G21F 9/28 571 E ,  G21F 9/28 571 J ,  G21F 9/28 ZAB ,  B08B 3/08 A