特許

J-GLOBAL ID：200903064315220525

ポジ型フオトレジスト組成物

発明者： 大背戸 浩樹 ,  片岡 睦雄
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-249329
公開番号（公開出願番号）：特開平5-088363
出願日： 1991年09月27日
公開日（公表日）： 1993年04月09日
要約：

【要約】【構成】 この発明はノボラック樹脂と特定のポリヒドロキシトリフェニルメタン誘導体のキノンジアジドスルホン酸エステルを含有するポジ型フォトレジスト組成物である。【効果】 新規な高コントラスト感光剤を用いることにより、少ない感光剤添加量で高コントラストかつ保存安定性のよいポジ型フォトレジスト組成物を得ることができる。

請求項（抜粋）：

ノボラック樹脂と感光剤からなるポジ型フォトレジスト組成物において、感光剤として一般式(I)で示される化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】(式中、R1 、R2 はアルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を、R3 〜R6 は水素原子、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を、R7 、R8 は水素原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を表わす。)

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027