特許

J-GLOBAL ID：200903064316697830

半導体ウエハを洗浄する装置と方法

発明者： 外島 正人
出願人/特許権者： ガンマ・プレシジョン・テクノロジー・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-533235
公開番号（公開出願番号）：特表2002-504760
出願日： 1999年02月23日
公開日（公表日）： 2002年02月12日
要約：

【要約】本発明は、超純乾燥蒸気を使用してポストエッチ半導体ウエハ(230)を洗浄する装置と方法に関する。

請求項（抜粋）：

水チャンバーと、水チャンバーに連結されたヒーターと、水チャンバーと操作上連係されたプロセスチャンバーと、水チャンバーに接続された入力とプロセスチャンバーに接続された出力を有する弁と、プロセスチャンバー内に配置されたウエハホルダーと、プロセスチャンバーに連結されたエバクタとを備える、ポストエッチ半導体ウエハを洗浄する装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 645 ,  B08B 3/10 ,  F26B 21/06

FI (3件)：

H01L 21/304 645 B ,  B08B 3/10 Z ,  F26B 21/06

Fターム (15件)：

3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB13 ,  3B201BB25 ,  3B201BB33 ,  3B201BB82 ,  3B201BB93 ,  3L113AB09 ,  3L113AC05 ,  3L113AC08 ,  3L113AC67 ,  3L113BA34 ,  3L113CA08 ,  3L113DA01