特許
J-GLOBAL ID：200903064321646798
湿式リトグラフ印刷用のレーザー結像可能印刷部材
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-088395
公開番号（公開出願番号）：特開平8-048018
出願日： 1995年04月13日
公開日（公表日）： 1996年02月20日
要約：
【要約】【目的】 従来の砂目金属版に対して、アブレーション的なレーザー結像の利点を増強することができるリトグラフ印刷部材及び結像方法を提供する。【構成】 リトグラフ印刷部材は、レーザー結像放射線をアブレーション的に吸収するインク受容第1層100、該第1層の下層の洗浄溶剤に部分的に溶ける保護層102及び該保護層の下層の親水性金属基体104からなる。該リトグラフ印刷部材にレーザー出力を照射し、該レーザー出力によるアブレーションによってイメージを現すパターンにて第1層100を除去し、次に洗浄溶剤に晒して該パターン内の保護層102を除去して、親水性金属基体104を露出させる。
請求項（抜粋）：
レーザー放射線により直接的に結像可能なリトグラフ印刷部材であって、a)結像放射線をアブレーション的に吸収することを特徴とするインク受容第1層、b)該第1層の下に積層されていて、洗浄溶剤に少なくとも部分的に溶ける第2層、及びc)親水性金属基体を備えることを特徴とするリトグラフ印刷部材。
IPC (3件)：
B41C 1/05
, B41N 1/22
, B41N 3/06
