特許
J-GLOBAL ID：200903064326056271

廃棄物等の処理施設

発明者：
柏木 佳行

柏木 佳行 について


出願人/特許権者：
株式会社明電舎

株式会社明電舎 について


代理人 (1件)： 志賀 富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-245073
公開番号（公開出願番号）：特開2000-073068
出願日： 1998年08月31日
公開日（公表日）： 2000年03月07日
要約：
【要約】【課題】 廃棄物などの被処理物の一時保管から加熱処理することで発生する分解ガスの大気中への放出、及び残渣の減容化までの一連の過程における各工程における複数の処理装置を有益的に結合することにより、処理施設全体として高効率で安全な施設を得ることが要求されている。【解決手段】 被処理物の保管,破砕とアルカリ物質でなる処理剤を添加混合する1次,2次処理装置と、加熱により被処理物の乾燥と含有する有害物質を分解析出し、処理剤との反応で無害な塩類を生成する分解反応工程を行う3次処理装置と、3次処理後の被処理物を炭化又は灰化して減容化する4次処理装置と、3次処理装置と4次処理装置において発生した分解ガスを燃焼する5次処理装置と、ガスの冷却と除塵を行う6次処理装置と、清浄化後のガスを大気中に排出する7次処理装置とを備えた廃棄物等の処理施設を提供する。
請求項（抜粋）：
搬入された廃棄物等の被処理物を加熱処理して、分解ガスと炭化物又は灰化物を生成し、分解ガスは清浄化処理して大気中に放出するとともに炭化物又は灰化物は回収して再利用又は溶融化するようにした廃棄物等の処理施設において、被処理物の保管と破砕処理を行う1次処理装置と、1次処理した被処理物にアルカリ物質でなる処理剤を添加混合する2次処理装置と、2次処理した被処理物を加熱により水分を蒸発して乾燥するとともに被処理物の含有する有害物質を分解析出し、処理剤との接触反応で無害な塩類を生成する分解反応工程を行う3次処理装置と、3次処理後の被処理物を分解反応工程よりも高い温度で加熱することにより炭化又は灰化して減容化する4次処理装置と、少なくとも3次処理装置と4次処理装置において発生した分解ガスを燃焼する5次処理装置と、この5次処理後のガスを冷却するとともに除塵を行う6次処理装置と、除塵により清浄化した後のガスを大気中に排出する7次処理装置とを備えたことを特徴とする廃棄物等の処理施設。
Fターム (3件)：
4H012HA03 ,  4H012HB03 ,  4H012HB09
引用特許：
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM