特許
J-GLOBAL ID:200903064331358111

コバルト・ニッケル・燐合金磁性膜及びその磁気記録媒体並びにその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 武田 正彦 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-040784
公開番号(公開出願番号):特開平6-120028
出願日: 1991年02月14日
公開日(公表日): 1994年04月28日
要約:
【要約】[目的] 非磁性の鉄・クロム・ニッケル鋼基材とし、高保磁力を有するコバルト・ニッケル・燐合金を安定してめっきした高密度磁気記録媒体を提供すること。[構成] 非磁性の鉄・クロム・ニッケル系合金の基材上に、下地層を形成し、該下地層の上に、コバルトが75乃至87重量%,ニッケルが8.5乃至22重量%,Pが2.5乃至4.5重量%よりなり、厚さが0.05乃至50μmであるコバルト・ニッケル・燐合金製磁性膜が形成させること。
請求項(抜粋):
コバルトが75乃至87重量%、ニッケルが8.5乃至22重量%、燐が2.5乃至4.5重量%よりなり、厚さが0.05μm乃至50μmであることを特徴とする磁気記録媒体用コバルトニッケル燐合金磁性膜。
IPC (5件):
H01F 10/16 ,  C25D 3/12 101 ,  G11B 5/62 ,  G11B 5/858 ,  H01F 41/26

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