特許
J-GLOBAL ID：200903064332774607
レーザ描画装置及びレーザ描画方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-101779
公開番号（公開出願番号）：特開2000-292934
出願日： 1999年04月08日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：
【要約】【課題】 レーザ描画装置における高速かつ均一な精細度をもって微細なパターン描画を可能にする。【解決手段】 ターンテーブルに感光材が塗布された原盤を載置して回転させながら、レーザスポットを径方向に移動させることより高速の描画をおこなう。原盤の回転中心201を中心とする扇形の領域内に任意のパターン203を、小領域209のような同サイズのドットに区分し、かかるドットをレーザスポットによる描画する単位としてパターン描画を行い、パターン形状の精度を向上させる。
請求項（抜粋）：
被処理部材が載置され該部材を回転させるためのターンテーブルと、直線的に移動可能なスライダと、光源となるレーザと、前記スライダに搭載され前記被処理部材にレーザ光を集光しレーザスポットを形成するための光学系と、前記レーザスポットの光強度を変化させるための光変調器を具備し、前記被処理部材に任意のパターンをレーザ描画するレーザ描画装置であって、前記光変調器に入力される制御信号の同期をとるためのクロック信号を発生する発振器を有し、前記ターンテーブルの回転中心から前記被処理部材上に形成されるレーザスポットの距離をr、前記ターンテーブルの回転数をfc、前記レーザスポットの被処理部材の径方向の長さをWd、Nを正の整数とした場合、前記クロック信号の周波数fdがfd=rNfc/Wdに調整されることを特徴とするレーザ描画装置。
IPC (3件)：
G03F 7/20 505
, G03F 1/08
, H01L 21/027
G03F 7/20 505
, G03F 1/08 A
, H01L 21/30 529
2H095BA06
, 2H095BB08
, 2H095BB31
, 2H097AA03
, 2H097AB07
, 2H097BB01
, 2H097BB02
, 2H097CA17
, 2H097LA10
, 5F046AA06
, 5F046BA07
, 5F046CA03
, 5F046CC06
, 5F046DA02
