パターン外観検査装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石原勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-126264
公開番号（公開出願番号）：特開平7-333168
出願日： 1994年06月08日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：

【要約】【目的】線幅が異なる多種多様なリードパターンに対しパターン幅に応じた検査基準で判定を行い、位置ずれなどに対しても信頼性の高いパターン外観検査を行う装置を提供する。【構成】画像処理装置で外観検査を行う検査装置において、細め処理により芯線及び距離値を抽出し、芯線各位置での線幅情報を算出し、測定データの注目点を基準に予め設定された範囲内に位置する基準データの線幅に比例した許容値範囲で線幅を比較判定するものである。

請求項（抜粋）：

電子部品のリードパターンを2値画像に変換し、画像処理装置で外観検査を行う検査装置において、2値画像に対し細め処理を繰り返しリードパターンの芯線位置を求める手段と、前記細め処理の繰り返し回数からリードパターンの背景部からの距離値を求める手段と、前記芯線位置と前記距離値の情報に基づいて、各芯線位置でのリードパターンの線幅を算出する手段と、各芯線位置での線幅についての基準データを記憶する手段と、被検査部品から得られた線幅の測定データと前記基準データとを比較してリードパターンの良否を判定する比較判定手段とを有し、前記比較判定手段が測定データの注目点での線幅を、注目点を基準に予め設定された範囲内に位置する基準データの線幅に比例した許容値で比較し、リードパターンの良否の判定を行うものであることを特徴とするパターン外観検査装置。

IPC (4件)：

G01N 21/88 , G01B 11/24 , G06T 7/00 , G06T 7/60

FI (2件)：

G06F 15/62 405 A , G06F 15/70 350 J

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平3-252544
特開平4-138345
特開平3-252545

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