特許
J-GLOBAL ID：200903064354756335
有機EL素子およびその製造方法、ならびに有機ELディスプレイおよびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
谷 義一
, 阿部 和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-314217
公開番号（公開出願番号）：特開2008-130363
出願日： 2006年11月21日
公開日（公表日）： 2008年06月05日
要約：
【課題】本発明の主たる目的は、有機層において生じた光をTFTとは反対側へ取り出す構造の、アクティブマトリクス方式の有機EL素子を、全体として低減された製造工数によって得ることにある。【解決手段】基板と、上記基板上に順次形成されたTFT層、コンタクト電極およびパッシベーション層と、上記パッシベーション層上に形成された複数の隔壁と、上記隔壁間に順次形成された下部電極および有機層と、上記隔壁上に形成された補助電極と、上記有機層の上部から上記隔壁の側部および上記補助電極の側部を介して上記補助電極の上部に至るまで連続的に形成された上部電極とを備える有機EL素子において、上記下部電極と上記補助電極とを、同一材料を使用し、かつ、蒸着プロセスによって同時に形成したことを特徴とする、有機EL素子。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板と、前記基板上に順次形成されたTFT層、コンタクト電極およびパッシベーション層と、前記パッシベーション層上に形成された複数の隔壁と、前記隔壁間に順次形成された下部電極および有機層と、前記隔壁上に形成された補助電極と、前記有機層の上部から前記隔壁の側部および前記補助電極の側部を介して前記補助電極の上部に至るまで連続的に形成された上部電極とを備える有機EL素子において、
前記下部電極と前記補助電極とを、同一材料を使用し、かつ、蒸着プロセスによって同時に形成したことを特徴とする、有機EL素子。
IPC (6件)：
H05B 33/26
, H05B 33/10
, H05B 33/12
, H01L 51/50
, H05B 33/22
, H05B 33/04
H05B33/26 Z
, H05B33/10
, H05B33/12 B
, H05B33/14 A
, H05B33/22 Z
, H05B33/04
, H05B33/12 E
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC33
, 3K107CC45
, 3K107DD03
, 3K107DD26
, 3K107DD37
, 3K107DD44Y
, 3K107DD44Z
, 3K107DD89
, 3K107DD90
, 3K107EE03
, 3K107EE22
, 3K107EE24
, 3K107EE42
, 3K107GG04
, 3K107GG28
