特許
J-GLOBAL ID:200903064355490355

磁気記録媒体の製造方法及び製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 明夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-066467
公開番号(公開出願番号):特開2000-268357
出願日: 1999年03月12日
公開日(公表日): 2000年09月29日
要約:
【要約】【課題】磁気記録媒体の耐摩耗性に優れた炭素系保護膜を効率よく、良好な歩留まりで形成する磁気記録媒体の製造方法を提供すること。【解決手段】ターゲット背面に設けた磁石と、内部陰極と、内部陰極に対向して設けられた基板と、炭化水素等を導入するガス供給系と、ガス排気系と、基板バイアス機構とからなるプラズマ発生装置を用い、この内部陰極の表面近傍に直交電磁界配置によるプラズマを発生させると共に、図2に示すような、発散し、かつ、基板方向に向かって減衰する磁束を発生させ、それに沿ってプラズマを発生させ、負電位にバイアスした基板に炭素系薄膜を形成するようにした磁気記録媒体の製造方法。
請求項(抜粋):
ターゲット背面に設けた磁石と、内部陰極と、該内部陰極に対向して設けられた基板と、水素及び炭化水素の内の少なくとも一種のガスを導入するガス供給系と、ガス排気系と、基板バイアス機構とからなるプラズマ発生装置を用いた磁気記録媒体の製造方法において、上記内部陰極の表面近傍に直交電磁界配置によるプラズマを発生させると共に、発散し、かつ、上記基板方向に向かって減衰する磁束を発生させ、該磁束に沿ってプラズマを発生させ、負電位にバイアスした上記基板に炭素系薄膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (3件):
G11B 5/84 ,  C23C 14/34 ,  C23C 16/50
FI (3件):
G11B 5/84 B ,  C23C 14/34 M ,  C23C 16/50 A
Fターム (34件):
4K029AA02 ,  4K029AA24 ,  4K029BA34 ,  4K029BB02 ,  4K029BD11 ,  4K029CA06 ,  4K029CA13 ,  4K029DC39 ,  4K029DC40 ,  4K029EA05 ,  4K029EA09 ,  4K030AA09 ,  4K030AA16 ,  4K030AA17 ,  4K030BA27 ,  4K030EA01 ,  4K030FA03 ,  4K030HA06 ,  4K030JA15 ,  4K030JA16 ,  4K030JA17 ,  4K030JA18 ,  4K030KA20 ,  4K030KA32 ,  4K030KA34 ,  4K030LA20 ,  5D112AA07 ,  5D112AA24 ,  5D112BC05 ,  5D112DD01 ,  5D112FA10 ,  5D112FB09 ,  5D112FB26 ,  5D112FB29

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